SOH

Spin - on Hardmasks

用于光致抗蚀剂下部的膜质,在后续蚀刻工艺中起到适当的防御膜作用,
帮助电路转录到目标膜质上以实现微细图形的准确度的材料

三星SDI – SOH(Spin – on Hardmasks)

产品介绍

三星SDI – SOH产品
通过制作微图形所需的旋转涂膜工艺形成高品质薄膜

SOH是形成半导体微细图形的辅助材料,要求具有填补缺口、增加平坦度、增强耐腐蚀性的特性。SDI材料部门的SOH是在形成半导体图形的过程中用于新涂覆方式的微细图形形成材料,在形成半导体电路图形时,采用旋转涂覆方式而非传统的蒸镀方式*来形成膜,实现微细线宽的图形准确度。* 蒸镀是什么?将金属加热至高温使之蒸发,利用蒸汽使金属在基材的表面形成薄膜状的方法

产品特征

与原有方式一样利用CVD(化学气相沉积,Chemical Vapor Deposition)工艺形成膜质的方式有未达到图形微细化要求的质量水平的部分,且设备投资负担大。三星SDI SOH是通过旋转涂覆工艺形成膜质,实现高水平的品质改善、生产率提高及投资费用节减的核心材料。

SOH (Spin-on Hardmasks)
高耐腐蚀性 优秀的化学稳定性

与原有的工艺材料亲和性强

以高纯度材料保障高品质 长期保管稳定性

常温保管3个月保持均一的品质

优秀的质量管理

控制极少量的金属及有机不纯物

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